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第183章 招揽浸润光刻机之父林苯坚（第4页）

其实，光刻机巨头ASML之所以能够发展起来，成为世界上首屈一指的光刻机巨头，最主要的原因恐怕就是林苯坚发明的‘浸润式微影技术’！

依照摩尔定律，每经过18至24个月的时间，在成本保持不变的情况下，芯片上的晶体管数量便会翻倍，性能亦会实现飞跃式的提升。

然而，这一规律在20世纪90年代却遇到了前所未有的挑战。

当时，尽管樱花国和鹰国的光刻机企业众多，但它们却共同陷入了一片困境。

原因就在于光刻机的光源波长始终无法突破193nm的瓶颈，无法再进一步缩短。

在半导体制造的领域里，光源波长的缩短直接关联着芯片制程的先进性。

樱花国的呢康公司主张采用157纳米F2激光技术，而由鹰国主导的EUV联盟则力推使用极紫外光技术，其光源波长仅十几纳米。

然而，当时的技术瓶颈使得这两种先进方案都难以实现。

因此，全球半导体行业在这一时期仿佛陷入了停滞不前的状态。

就在这个关键时刻，林苯坚走进了人们的视线。

在宝积电工作的他，脑海中灵光乍现，提出了一个颠覆性的解决方案。

林苯坚建议，在镜头与硅片之间引入一层水，让光线经过水的折射，将波长降至132纳米。

如此，投射到硅片的图案分辨率将更为清晰，晶片的密度也可更上一层楼。

他通过不懈努力和反复实验，证明了这个方案的可行性。

于是，满怀信心的林苯坚带着这个方案走向了樱花国和鹰国知名半导体公司的洽谈桌。

然而，对于林苯坚提出的颠覆性方案，樱花国和鹰国的光刻机巨头企业却持谨慎态度。

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他们认为在镜头与硅片间加水会产生气泡并带来污染风险，这可能会破坏芯片生产中严苛的无尘环境，大大降低产品的良品率。