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优点是切割面平整,效率稳定,缺点是效率低,耗损多。
因为一次只能切一片……
还有一种方法是使用金刚砂线切割机,优点是切割效率高,损耗低。
缺点是切割面不平整,需要花更多时间打磨。
第四、打磨。
正面打磨,背面做磨砂处理,为之后的工序做充分准备。
第五、倒角。
用倒角机把打磨好的硅片直角磨成圆弧形。
因为硅是一种脆度很高的材料,这样做是为了避免硅片边缘发生崩裂风险。
同时为后面涂抹光刻胶做准备,因为光刻胶是用旋转方式涂抹在硅片上的,如果硅片是直角,光刻胶就会因为离心力淤积在硅片边缘处,造成厚度不均,从而影响光刻。
还有在做外延生长时候,沉积物也会优先堆积在直角边,影响沉积效果,而圆弧状的角可以消除边缘沉积现象。
第六、精磨。
做好倒角后给硅片再做一次打磨去掉一些厚度,让硅片更加光滑。
第七、刻蚀。
使用化学溶剂对硅片进行化学刻蚀(氢硝酸和氢氟酸)腐蚀掉表面20-50微米的厚度,祛除之前打磨过程中,硅片累积的机械损伤以及混入硅片表面的磨料。
到此,经过一系列操作的硅片表面已经很光滑了,但用来制造芯片还是不够光滑。
光刻的图像尺寸和精度都是纳米级别,所以要求硅片的表面就是一个完美的平面,一点点起伏层次都会影响光刻效果。
第八、化学机械抛光。
为了达到制造芯片用晶圆那变态极致的平滑,使用物理和化学结合的抛光手段。
具体做法就不说了,只简单举个栗子。
在12英寸的硅片上,光滑面达到的效果就如同你在电影院里看到那种IMAX屏幕影布上只有一根头发丝粗细的起伏。
(来啦!
来啦!
!
吐槽又来啦!
!
不知道手搓党造出世界最先进的0.2、0.1纳米级别的芯片时候用的是什么技术?!
很多小说的主人公可都是孤儿哇,没爹没娘的,哪儿来的钱搞这些东西。
有渠道的话……氢硝酸和氢氟酸可都是剧毒物质啊!
没有完美的防护措施,要用手来做吗?)
第九、湿法清洗。
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