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第124章 不展示（第3页）

"我们公司根据其缺点，逐一进行了解决！

"

此言一出，会议室内顿时一片倒吸冷气声！

如果真如方程所说，这些问题都解决的话，那可以说，国外那所谓的封锁，在以后就只是个笑话而已。

毕竟相比阿麦斯的光刻机来说，其光源上面临的困难也是很多的。

他们之所以放弃激光辅助放电等离子体技术，就是因为这些难题一直得不到解决。

大家连忙屏气凝神，静待方程的讲解。

"先来说一下关于碎屑的控制问题。

大家都知道碎屑的产生是因为激光轰击锡物料所产生的。

这种碎屑一旦沉积在反射镜表面，就会影响到极紫外光的输出功率，从而影响光刻效率，降低光刻机的使用寿命。

有研究机构提出，可以利用加磁场来降低离子动能。

但这只对带电离子有效。

也有提出充加缓冲气体，来增加原子和离子的阻力。

效果有吗？有，可是不大。

"

众人听了纷纷点头。

"我们另辟蹊径，采用了一种全新的技术理论，浮游离子吸附加力引导！

通过这种技术，可以有效地降低碎屑的单位密度，从而做到对碎屑有效控制。

"

方程说完，继续道："我们再来讲一下关于重复频率的问题…"

"等等。

"一名老者举手示意道："方总，你能不能将这个浮游离子吸附加力引导，详细地讲一下？"

方程看了看大家希翼的神情，无奈地说道："大家的想法我知道。

可是这是我们公司的机密技术，在这里实在不方便过多透露。

"

有人马上问道："方总，你的意思是说这项技术你们没有申请专利吗？"

方程点了点头道："没有。

大家都知道申请专利，是需要将技术完全展示的。

在我们还不具备制作出完整光刻机以前，这项技术我们是不会申请专利的。

希望大家能够理解。

"

方程向大家表达了一下歉意后，继续讲起了后面的各种问题。